■編集・発行
東京大学生産技術研究所 / 広報室
IIS NEWS
No.198 2023.7
●基礎系部門 教授
町田 友樹
IIS TODAY
グラフェンの単原子層の光学顕微鏡像が映し出された モニターを背景に、笑顔で表紙を飾っていただいたのは 基礎系部門の町田友樹教授です。町田先生の専門分野は 低次元量子輸送現象。特にファンデルワールス複合原子 層に着目した研究を進めています。二次元炭素原子であ るグラフェンを始めとした二次元結晶は、その特性が原 子層の積み重ね方で劇的に変化します。町田先生はこれ まで長年培ってこられた、 「重ねる・ひねる・曲げる」といっ た精緻な原子層操作技術を駆使し、グラフェンに代表さ れる二次元層状物質をファンデルワールス力で積み重ね ることで新しいマテリアルの創造に取り組んでいます。 ファンデルワールス複合原子層の有する無限の可能性に 挑戦し続ける町田先生ですが、 若手研究者に伝えたいメッ セージもやはり「挑戦を忘れないで」とのこと。一般に、
若手研究者を取り巻く環境は厳しいとも言われています が、論文の数に縛られないで本質的なサイエンス・テク ノロジーにチャレンジして欲しい、生研は若手でもそれ ができる環境が整っていると町田先生はおっしゃいます。 そんな町田先生は今年で RMO 室長 6 年目、次長時代も 含めると 13 年以上生研の運営に貢献されてきました。そ の中で町田先生は、常に大きなサポートをしていただい ている各室のメンバーや事務部の皆様にも言及されます。 生研における若手でも研究し易い環境・リソース・雰囲 気は、生研の伝統ですが、町田先生や各室・事務部の皆 様の表に現れない努力により維持されていることを再確 認すると共に、改めて感謝いたします。 （広報室 清田 隆）